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フォトリソ

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フォトリソ仕様

  1. マスク作成
  2. アライナー露光(片面/両面)
  3. ステッパー露光
  4. レーザー描画
  5. EB描画 ※線幅50nm実績あり(φ50nmピラー、φ300nmホール 等)


アライナー露光

アライナー露光(片面/裏面位置合わせ精度、数μm可能)

φ8インチSiウエハ上レーザー描画

レーザー描画


SEM用目盛線幅30nm

SEM用目盛線幅30nm

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