フォトリソ仕様
- マスク作成
- アライナー露光（片面/両面）
- ステッパー露光
- レーザー描画
- EB描画 ※線幅50nm実績あり（φ50nmピラー、φ300nmホール 等）
アライナー露光
（片面/裏面位置合わせ精度、数μm可能）φ8インチSiウエハ上レーザー描画
SEM用目盛線幅30nm
光学機器測定、テストチャート、薄膜パターニングのソリューションを提供するパール光学工業
光学機器測定、テストチャート、薄膜パターニングのソリューションを提供するパール光学工業
（片面/裏面位置合わせ精度、数μm可能）