成膜仕様
【PVD】
Cr、Al、Cu、Au、Ti、Ag、Ni、Mo、Pt、W、ITO、Al2O3、TiO2、SiO2、MgF2 等※仕様により、スパッタ/蒸着/イオンプレーティングを使い分けます。
【CVD】
W、TEOS、SiN、BPSG、PSG、SiO2、MgF2 等※仕様により、LP-CVD/PE-CVD/MO-CVDを使い分けます。
単純に成膜のみも可能ですし、マスクを作成することにより、リフトオフ/エッチングにより、ご所望のパターンを製作可能です。
単層/積層でパターンを製作できます。
大学や、研究用途に、小ロットでご注文をいただいております。
お気軽にご相談ください。